公司是国内半导体刻蚀和薄膜沉积设备细致划分领域关键零部件的精密制造专家，尤其在行业公认的技术难度仅次于光刻设备的刻蚀设备领域，公司是国内少数已量产供应 7nm 及以下国产刻蚀设备关键零部件的供应商，直接与国际厂商竞争。

　　经过逾 15 年的技术积累和产品工艺自主研发，公司成立了精密机械制造技术、表面处理技术、焊接技术、高端器件的设计及开发技术和定制化工装开发技术等五大核心技术平台，在日趋严苛的应用条件下，通过生产实践不断实现工艺能力的迭代进化，持续满足先进装备更新迭代的工艺需求，致力于成为全世界存在竞争力的精密制造企业。

　　在掌握的核心技术平台基础上，公司紧贴客户的真实需求，将跨学科知识、多实验工艺方法、产业链资源加以整合，形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类基本的产品，重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积设备等半导体核心设备中。在刻蚀领域，企业主要提供以反应腔室、内衬为主的系列核心配套件；在薄膜沉积领域，企业主要提供加热器、匀气盘等核心零部件及配套产品。

　　零部件是半导体设备国产化的重要载体，公司凭借产品专精的特点在国内本土半导体设备厂商国产化浪潮中占了重要地位，并在刻蚀和薄膜沉积设备的关键零部件上推动了国产化的自主可控进程。

　　公司的产品为应用于半导体设备领域及其他领域的精密零部件，在半导体设备领域，公司产品大致上可以分为关键工艺部件、工艺部件和结构部件。

　　其中，关键工艺部件包括内衬、加热器、匀气盘及腔体，系晶圆反应工作区的核心部件，构成腐蚀隔离、可控温、反应气体特定分布、真空环境等晶圆制造工艺的必备条件，其产品质量直接影响工艺良率。

　　公司处于高端装备领域，精密零部件产品主要使用在于半导体设备，各期相应主要经营业务收入占比均在 90%左右。

　　根据 SEMI 发布的数据，全球半导体设备市场规模到 2024 年将增长至1,071.6 亿美元。以产业链应用环节来划分，半导体设备主要使用在于前道工艺设备（晶圆制造）和后道工艺设备（封装测试）两个大类，前道设备占据了整个市场的 80%-85%，其中光刻设备，刻蚀设备和薄膜沉积设备是价值量最大的三大环节，各自所占的市场规模均达到了前道设备总量的 20%以上。

　　国内半导体设备行业在下游加快速度进行发展的推动下保持迅速增加的趋势。根据SEMI 数据，2022 年中国大陆半导体设备的销售额达 283 亿美元，占全球半导体设备市场 26.30%的份额。目前我国慢慢的变成了全球半导体设备第一大市场，市场规模及发展前途广阔。

　　公司自设立时起即与行业头部企业北方华创和中微公司开展密切合作，作为核心零部件的重要供应商协助客户诸多设备经历了研发、定型、量产和迭代至先进制程的完整历程。同时，公司还与拓荆科技、华海清科、中芯国际等别的行业头部企业和终端晶圆制造企业建立了长期稳定的战略合作关系。

　　2023 年度，公司已量产销售的应用在刻蚀设备的关键工艺部件在中国境内同种类型的产品的细分市场规模约为 7.77 亿元，细分市场占比超过 15%。随着中国境内刻蚀设备规模一直增长叠加国产化率提升，未来公司应用在刻蚀设备的关键工艺部件对应的细分市场规模将进一步提高。

　　2023 年度，发行人已量产销售的应用在薄膜沉积设备的关键工艺部件在中国境内同种类型的产品的细分市场规模约为 11.20 亿元，细分市场占比超过 6%。

　　2023 年，发行人量产销售的工艺部件和结构部件金额为 2.33 亿元，保守估计该等零部件市场占比取值 5%，则该等产品的细分市场规模为 46.60 亿元。

　　综上，公司整体对应的半导体设备机械金属类零部件的国内市场规模约为 160.13 亿元；其中，公司目前已量产的关键工艺部件应用在刻蚀设备、薄膜沉积设备的国内细分市场规模约为 18.97 亿元，已量产的工艺部件、结构部件的国内细分市场规模约为 46.60 亿元，合计规模约为 65.57 亿元。

　　未来，公司将充分的利用国产化浪潮机会，继续坚持面向经济主战场、面向国家重大需求、优先服务国内本土半导体设备企业的战略方针，深耕半导体产业链“卡脖子”领域，筑牢国产半导体设备供应链安全基础，积极推动国内大循环。

　　综合来看，公司是半导体设备细致划分领域的领先企业，技术壁垒高，具备国产替代属性，行业前景广阔，在合理估值时具备投资价值。

　　当地时间3月8日，韩国总统尹锡悦被释放，离开首尔拘留所，结束了长达52天的羁押期。他走出拘留所大门后向等候的支持者挥手、鞠躬，并握拳做出加油的手势。在乘车抵达位于汉南洞的总统官邸时，尹锡悦再次向支持者致意。

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